微导纳米（688147）研究报告：专注ALD技术，光伏和半导体双向高成长.pdf
- 上传者：新**
- 时间：2023/01/28
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微导纳米（688147）研究报告：专注ALD技术，光伏和半导体双向高成长。公司专注于 ALD 技术，引领国内 ALD 技术的发展应用。公司为国内首 家将 ALD 技术规模化应用于光伏领域，也是国内首家成功将量产型 High-k 原子层沉积设备应用于 28nm 节点集成电路制造前道生产线的设 备公司，并不断在泛半导体领域拓展产品应用外延。 2021 年度和 2022 年前三季度公司营收分别为 4.28 亿元、3.85 亿元，归 母净利润分别为 4,611.37 万元、-325.47 万元，截至 2022 年 9 月末，公 司已取得在手订单 19.75 亿元。公司前期研发投入高，新产品开拓初期 的毛利率有一定影响，规模效应有望带来利润加速回升。
光伏：立足 ALD，新型电池技术全面布局
PERC：公司量产设备镀膜速率突破 10,000 片/小时，打破制约 ALD 技术应用于光伏领域的产能限制。2018 年、2019 年公司 PERC 电池 背钝化设备装机容量市占率分别为 41.16%、48.41%。
TOPCon：（1）ALD 设备在 TOPCon 电池正面氧化铝工艺中，可沉 积超薄的、高深宽比的膜层，更适应正面镀钝化膜的复杂形貌，首 先取得较高市占率。（2）公司开发的 PEALD 二合一平台，集成了 PEALD 和 PECVD 两种工艺，分别用于制备隧穿层和多晶硅层，有 望受益于 TOPCon 路线持续扩产。
IBC：由于平台化技术特征，IBC 可以和 HJT、TOPCon 技术结合， 电池制备工艺更为多变。其中，ALD 设备在钝化层的制备中具有重 要地位，且需求量往往更高。
HJT：公司 PECVD 技术可以应用于本征非晶硅层沉积，ALD 设备 也储备用于 TCO 层沉积。
钙钛矿：ALD 具有衬底温度较低、可精确控制膜厚、大面积生长、 薄膜均匀性好、三维保形性好等特点，在 TCO 等功能层、缓冲层和 封装中都具备广泛的应用条件。公司根据下游客户需求进行相应储 备。
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