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2022年光刻工艺行业发展现状及应用范围分析 光刻是PCB生产与泛半导体的重要工艺
- 2022/05/19
- 2843
- 中泰证券
2022年光刻工艺行业发展现状及应用范围分析，光刻是PCB生产与泛半导体的重要工艺。光刻是高精度的图案化技术，在先进制造中应用广泛。光刻技术是指利用光学-化学反应原理和化学、物理刻蚀方法，将设计好的微图形结构转移到覆有感光材料的晶圆、玻璃基板、覆铜板等基材表面上的微纳制造技术。
标签： 光刻工艺 PCB -
掩膜版行业深度报告：光刻工艺“底片”，国产替代步伐加快
- 2020/06/17
- 2606
- 未来智库
掩膜版（Photomask）又称光罩、光掩膜、光刻掩膜版、掩模版等，是微电子制造过程中的图形转移工具或母版，是承载图形设计和工艺技术等知识产权信息的载体。掩膜版用于下游电子元器件制造业批量生产，是下游行业生产流程衔接的关键部分，是下游产品精度和质量的决定因素之一。
标签： 半导体 光刻工艺
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