PVT法制备碳化硅单晶的难度在于什么?

PVT法制备碳化硅单晶的难度在于什么?

最佳答案 匿名用户编辑于2022/10/24 08:44

这个我知道,答案都来自报告《金博股份(688598)研究报告:碳碳热场龙头,新材料平台加速成型》,如果有兴趣了解更多相关的内容,请下载原报告阅读。

1)温 度场控制困难:长晶需要在 2500℃高温下进行,对材料和温度控制要求高。

2)生长速度缓 慢:晶棒厚度每小时生长速度视尺寸大小约为 0.2~1mm/小时。

3)良率难以控制:SiC 存在 200 多种晶体结构类型,其中仅六方结构的 4H 型(4H-SiC)等少数几种晶体结构的单晶型 碳化硅才是所需的半导体材料,在晶体生长过程中需要精确控制硅碳比、生长温度梯度、晶 体生长速率以及气流气压等参数。

4)晶体扩径难度大:PVT 法随着晶体尺寸的扩大,难度 工艺呈几何级增长。目前碳化硅功率器件的价格仍数倍于硅基器件,高成本一定程度限制了 其应用场景及市场渗透。

参考报告

金博股份(688598)研究报告:碳碳热场龙头,新材料平台加速成型.pdf

金博股份(688598)研究报告:碳碳热场龙头,新材料平台加速成型。光伏热场市占率领先,打造新材料平台。金博股份2007年完成碳纤维预制体与快速气相技术的研发与产业布局。公司独有的快速化学气相沉积工艺,将沉积时间缩短到300h以内,大幅降低生产成本。2020年上市以来公司经过多轮扩产,目前光伏碳/碳热场产品市占率约40%。公司迭代多代的技术、工艺及装备对各类碳基复合材料的制备具有通用性,通过底层原料、设备、工艺交叉组合,制备出不同类型碳基复合材料产品,广泛应用于光伏、半导体、氢能、汽车等产业。成本优势明显+降本路径清晰,市占率有望进一步提升。光伏碳/碳热场经历了2020年以来的供应紧缺,下游厂...

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