半导体射频电源行业专题报告:刻蚀+CVD设备的核心,国产化替代拐点已至.pdf

  • 上传者:罗***
  • 时间:2023/12/19
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半导体射频电源行业专题报告:刻蚀+CVD设备的核心,国产化替代拐点已至。射频电源:半导体工艺控制的核心,应用于 CVD 薄膜沉积、刻蚀等核心环节。1) 什么是射频电源?用来产生射频电功率的电源。核心作用—通过产生高频 电磁场,将在低压或常压下的气体进行电离、形成等离子体。从而在腔体 内部实现不同的工艺需求。 2) 下游应用在哪?半导体薄膜沉积、刻蚀、离子注入、清洗等前道工艺机台 的关键零部件之一,与工艺直接相关。射频电源的应用直接关系到腔体中 的等离子体浓度、均匀度和稳定度,影响到终端晶圆刻蚀、成膜的质量。 3) 为什么值得关注?此前受制于下游对半导体核心零部件替换意愿弱、且对 性价比不敏感等因素,国产替代诉求较弱。2022 年 10 月美国出台的“半 导体制造”最终用途限制措施,进一步限制国内半导体的发展,射频电源 已成为“卡脖子”环节之一,国产替代需求紧迫。

行业趋势:全球/国内 270/70 亿元市场,国产化率极低、未来 2 年将提速

1) 市场空间:受益于新增扩产+存量替换市场需求,我们测算:预计 2025 年 全球半导体射频电源市场空间有望达 270 亿元,国内市场空间达 70 亿元。 未来随着半导体资本开支的上行、市场空间有望持续打开。

2) 竞争格局:全球射频电源主要被 2 家美系厂商寡头垄断。2022 年美国 MKS 和 AE 合计市占率达 87%,其余日德企业占据少量份额,国产化率极低。在 半导体“卡脖子”背景下、国内厂商英杰电气、恒运昌、北方微电子与下 游设备厂共同成长,在射频电源产品供应方面已实现批量订单突破。

3) 行业趋势:我们认为行业将受益于——海外供应瓶颈+库存消耗周期因素+ 半导体资本开支提速的 3 重因素叠加,半导体射频电源国产替代进程有望 进入加速期。预计半导体射频电源的国产替代趋势有望在未来 1-2 年内加 速推进、实现全面国产替代。

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