广立微研究报告：聚焦半导体良率提升，EDA软件+WAT设备领军.pdf

上传者：子虚乌有
时间：2023/07/07
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广立微研究报告：聚焦半导体良率提升，EDA软件+WAT设备领军。良率提升行业具备三大强劲驱动力，公司深耕赛道保持高速成长。良率提升环节贯穿芯片的设计到封测全过程，其发展驱动力主要概括为三点：1)晶圆厂产能快速扩张。近 10 年我国集成电路整体产量 CAGR 为 15%，过去五年市场规模 CAGR 为 18%，显著高于全球平均水平。2）产业自主可控要求明确。《中国制造 2025》明确了半导体 70%的自给率目标，相关政策也在加速出台。3）良率提升为芯片生产降本核心。公司深耕良率提升领域，具备测试芯片设计 EDA、WAT 电性测试设备和数据分析软件等良率提升业务，在明确的赛道景气度与下游需求下有望保持快速增长。

EDA：行业增长与国产替代需求明确，细分领域软硬协同实现更高价值体量。 国内市场具备百亿市场规模，近 5 年市场规模 CAGR 为 13%。目前国内市场仍由海外寡头垄断，国产替代空间广阔。公司专注制造类 EDA 软件，通过差异化竞争和完备产品矩阵占据市场份额，在国产替代需求下实现更高价值占比。公司是国内极少数能够在成品率提升及电性监控领域提供全流程覆盖产品及服务的企业，通过软硬协同方案实现更高价值体量。

WAT：自研 WAT 打破海外垄断，具备 10 亿收入增长空间。公司于 2020 年成为国内稀缺的具备量产能力的 WAT 供应商，主力 T4000 与 T4100S 对标海外龙头，有望拓展高端 CP\FT 等测试环节，保持技术领先。我们预计 2025 年国内 WAT 整体市场规模约 13 亿元，公司为该领域的国产龙头，有望获得大部分增量空间。