光刻机行业生态如何？

下面是我对光刻机行业生态的简单介绍。

图形刻画，光刻机必不可少。光刻是将设计好的电路图从掩膜版转印到晶圆表面的 光刻胶上，通过曝光、显影将目标图形印刻到特定材料上的技术，可以简单理解为 画图过程，是晶圆制造中最重要的技术。光刻工艺包括三个核心流程：涂胶、对准 和曝光以及光刻胶显影，整个过程涉及光刻机，涂胶显影机、量测设备以及清洗设 备等多种核心设备，其中价值量最大且技术壁垒最高的部分就是光刻机。

光刻机不断迭代，满足制程提升需求。光刻机经过多年发展，已经演化出五代产品， 由光源波长进行区分可以分为可见光（g-line），紫外光（i-line），深紫外光（KrF、 ArF）以及极紫外（EUV）几大类，从工作类型又可以分为接触式、扫描式、步进式、 浸没式等方式。不同类型的光刻机主要是为了满足日益提升的制程需求，当前最先 进的 3nm 制程只能通过 EUV 光刻机才能实现。

复杂程度高，多厂商合作才能组成光刻机。全世界没有任何一家公司可以独立制造 光刻机，其生产技术要求极高，可以分为十一个主要部件，包含超过十万个零件，涉及上下游多家供应商，具有极强的生态属性。光刻机的主要部件有工件台、激光 源、光束矫正器、能量控制器、光束形状设置、遮光器、能量探测器、掩模台、物 镜、封闭框架与减震器。

三大海外厂商占据主导，EUV 仅 ASML 一家独供。目前全球光刻机市场几乎由 ASML、尼康和佳能三家厂商垄断，其中又以 ASML 一家独大。由于光刻机需要超 十万个零部件，在各大晶圆厂不断扩产的背景下，光刻机的交货时间一再推迟，EUV 光刻机的交期已经推迟到 24 个月以后。从销量来看，2021 年 ASML 占比 65%，出 货量达到 309 台，力压尼康和佳能，其中 EUV/ArFi/ArF 高端光刻机占比分别为 100%/95.3%/88%。从销额来看，EUV 光刻机单价超过 1 亿欧元，最新一代 0.55NA 大数值孔径 EUV 光刻机单价甚至超过 4 亿欧元，全球仅有 ASML 可提供，使其占据市场绝对龙头地位，2021 年市场份额达到 85.8%。

上海微电子重点突破，国产光刻机有望打破封锁。目前国内具备光刻机生产能力的 企业主要是上海微电子装备有限公司，主要致力于半导体装备、泛半导体装备、高 端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务。公司设备广泛应用于集成电路 前道、先进封装、FPD 面板、MEMS、LED、Power Devices 等制造领域。公司的光 刻机产品有 SSX600 和 SSB500 两个系列，其中 SSX600 系列主要应用于 IC 前道光 刻工艺，可满足 IC 前道制造 90nm、110nm、280nm 关键层和非关键层的光刻工艺 需求；SSB500 系列光刻机主要应用于 IC 后道先进封装工艺。