铜电镀行业专题报告:赔率来自低渗透、高空间,胜率或来自下游应用加速.pdf
- 上传者:十一路
- 时间:2023/08/17
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铜电镀行业专题报告:赔率来自低渗透、高空间,胜率或来自下游应用加速。本篇报告主要分析看多HJT扩产的底层逻辑、铜电镀对于HJT的意义、从胜率和赔率两个角度看铜电镀的投资思路。
一、24年HJT比topcon回本周期更短+差异化产品属性,24年HJT行业扩产预计80-100GW
复盘22年H2和23年topcon扩产逻辑,核心非单W成本打平perc,截至目前topcon的单W成本依旧未打平perc,同样HJT单W成本是否打平 topcon或perc并非影响行业扩产选择的关键因素,本质是初始投资回本周期足够短,而24年HJT回本周期可更短。HJT组件相比topcon组件单 W溢价持续保持在0.1元以上,HJT与topcon的单W成本差距展望23年底有望降低至0.04-0.05元,展望24年底有望降低至0.02-0.04元,24年底 topcon的回本周期预计为3年,银包铜HJT回本周期预计为2.45年,铜电镀HJT预计为2.86年,HJT回本周期相比topcon可更短。
我们预计,24年HJT行业扩产80-100GW,yoy+64%;HJT 24年行业扩产看80-100GW的核心逻辑1:展望24年,HJT相比topcon回本周期可更短; 核心逻辑2:24年topcon可能会成为标准化产品,单W盈利逐步下行,单W下行的本质其实是企业为了获取更多的市场份额。24年HJT组件功 率更高且市场供给有限,相比topcon而言HJT属于差异化产品,对于下游组件企业提升市占率是相对更好的产品选择。
二、铜电镀对于HJT的意义在于提效而非降本
我们认为,铜电镀对于HJT的主要意义在于提效,而非降本。若考虑铜电镀25年导入量产,其对标路线应为25年丝印的银包铜。由于电镀铜 除了浆料成本以外,还有其他的设备和材料成本,从远期来看铜电镀相比银包铜不一定能够实现降本,铜电镀对于HJT的主要意义在于提效。
铜电镀提效原理为铜相比低温银浆的导电性更强、铜栅线与TCO之间接触更为致密、栅线宽度更细和栅线形貌更好,综合带来效率提升。
相比TOPCon,HJT非硅成本处于劣势,铜电镀的效率提升对于HJT较为关键。硅料价格降至7万元/吨左右时,相比topcon,HJT硅片厚度薄 20μm可带来的0.02元/W的成本节约,非硅成本处于劣势下,提效才是HJT突围之路,铜电镀预计可提升电池片效率0.3%-0.5%。
三、胜率角度:量产难点已解决近半+后续催化剂依旧较多,铜电镀产业化进程正不断加速
铜电镀量产难点已解决近半,仅有设备稳定、油墨材料和环保问题尚待解决:之前铜电镀量产难点包括设备产能和稳定性、油墨材料、脱 栅、氧化、良率、环保,目前设备产能、脱栅、氧化、良率问题均已解决,设备稳定性处于验证阶段,油墨开发也有企业进展较快,环保 问题可通过增设废水处理装置来一定程度解决;
催化剂包含两方面,一是铜电镀自身(设备验证进展或下游订单,设备验证预计大多在9月有结果),二是HJT和topcon动态比较(topcon效 率或盈利的变化进展)。
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