安集科技业务营收、产能及优势分析

国内抛光液龙头企业，横向拓展晶圆制造清洗液电镀液业务。

1.营收高速增长，毛利率稳定在 50%以上

安集科技是国内的抛光液龙头企业，下游客户为大陆和台湾头部晶圆厂。公司成立于 2004 年，业务最初聚焦抛光液和光刻胶去除剂产品；目前，公司已经形成“3+1”的业务版图， 业务板块涵盖全品类化学机械抛光液、功能性湿电子化学品和电镀液及添加剂，同时构建 核心原材料自主供应能力。

公司核心业务板块涉及半导体制造领域，涵盖“抛光、清洗、沉积”三大半导体制造环节。 核心业务抛光液用于硅片制造、晶圆制造和封测环节的平坦化过程，功能性湿电子化学品 用于刻蚀、沉积、抛光后的清洗，电镀液用于晶圆制造和先进封装中的金属互连形成。 2019-2023 年营收保持高速增长。公司营收从 2016 的 1.97 亿元增长至 2023 年的 12.38 亿元，CAGR 超过 30%。2019-2022 年，公司营收逐年快速增长，一方面来自公司产品品类 拓展和客户份额提升；另一方面来自行业景气度上升。2023 年，尽管下游晶圆厂稼动率下 滑，公司营收 12.38 亿元，同比增长 14.96%。24H1，公司实现营收 7.97 亿元，同比增长 38.68%；归属上市公司股东净利润 2.34 亿元，同比减少 0.43%；扣非归母净利润 2.35 亿 元，同比增长 46.07% 抛光液业务是公司的主要营收来源，营收占比 80%以上。目前，公司的 CMP 抛光液业务已 经扩展到硅衬底抛光液、铜及铜阻挡层抛光液、钨抛光液、介质材料抛光液、基于氧化铈 磨料的抛光液以及用于先进封装的硅通孔（TSV）抛光液等。2020-2022 年公司抛光液同比 增速均超过 50%，因为公司在 14nm 制程节点的抛光液完成了验证-导入过程后，形成批量 供货。24H1，公司抛光液业务营收 6.73 亿元，同比增长 33.09%。 功能性湿电子化学品由光刻胶去除剂业务拓展而来，产品品类已经涵盖刻蚀后清洗液、光 刻后剥离液、抛光清洗液、刻蚀液等多种产品。2023 年，公司功能性湿电子化学品营收 1.55 亿元，同比增长 24.38%。24H1，公司功能性湿电子化学品营收 1.18 亿元，同比增长 80.94%。

综合毛利率稳定在 50%以上，核心业务 CMP 抛光液毛利率超过 50%。公司综合毛利率虽然 有所变化，但是均稳定在 50%-56%。CMP 抛光液业务毛利率维持稳定，2023 年毛利率 59.19% 功能性湿电子化学品 2018 年下滑明显是因为光刻胶去除剂原材料成本上涨，公司对成熟 产品的售价下调导致。2022 年，因为宁波工厂一期转固，产能爬坡导致毛利率偏低。24H1， 公司毛利率 57.72%，CMP 抛光液毛利率 61.03%，功能性湿电子化学品毛利率 37.90%。

2022 年以来公司的期间费用率显著降低，归母净利润增长迅速。公司是研发型公司，费用 主要以研发费用为主，公司研发费用率在 20%左右。2022 年以前的研发费用率较为稳定， 2022 年公司营收规模迅速扩大，期间费用率显著降低，公司归母净利润增速显著高于营 收增速。2023 年公司归母净利润 4.02 亿元，同比增长 32.53%。

公司的 CMP 抛光液主要原材料是硅溶胶和气相二氧化硅等，磨料主要从日本企业购买，采 购相对集中，2023 年前五大供应商的份额合计为 47.09%。公司的前五大客户是中国大陆 和台湾的知名晶圆制造公司，2023 年前五大客户的份额合计为 80.49%。

2.计划打造三大生产基地，积极扩充抛光液和功能性湿电子化学品产能

公司目前拥有上海金桥和宁波北仑两大生产基地，计划投资建设上海化工区生产基地，且 在宁波北仑生产基地新增功能性湿电子化学品产能。其中，上海金桥基地 2006 年建成， 公司租赁使用，主要生产化学机械抛光液\刻蚀后清洗液、抛光后清洗液等功能性湿电子 化学品。宁波北仑生产基地 2020 年建成，属于公司全资子公司宁波安集的自有生产基地， 目前主要生产刻蚀后清洗液、光刻胶剥离液等功能性湿电子化学品。上海化工区生产基地 于 2024 年 3 月 8 日正式开工建设。 公司计划发行可转债，主要用于宁波北仑的功能性湿电子化学品扩产及上海化工区工厂建 设。募集总额不超过 8.31 亿元。其中，用于上海安集集成电路材料基地项目 3.49 亿元， 上海安集集成电路材料基地自动化信息化建设项目 0.90 亿元，宁波安集新增 2 万吨/年 集成电路材料生产项目 0.60 亿元，上海金桥生产基地研发设备购置项目 1.10 亿元，补充 流动资金 2.22 亿元。

3.高研发投入及规模优势构筑 CMP 抛光液竞争优势

重视研发投入，公司研发费用率高于同行。公司研发费用率高于 15%，显著高于鼎龙股份 和上海新阳，2023 年研发费用率为 19.11%。公司持续在研发端持续投入，研发人员数量 快速增加，截至 2023 年，公司研发人员数量 236 人，占比超过 50%，研发人员平均薪酬 36.27 万元。

公司在国产化学机械抛光液厂商中具有先发优势和规模优势。1）相对于竞争对手鼎龙股 份和上海新阳，公司在化学机械抛光液的营收规模具有明显的规模优势。2）抛光液在晶 圆制造中的多道工序使用，下游晶圆厂对于抛光液的安全性要求比较高，且晶圆厂的抛光 液投料系统使用的抛光液具有唯一性，抛光液无法掺杂使用，晶圆厂具有较高的更换成本。

公司已经形成了完整的抛光液产品品类体系，构建一站式抛光液供应平台。作为国内化学 机械抛光液的领先者，公司在抛光液品类包括硅衬底抛光液、铜及铜阻挡层抛光液、钨抛 光液、介质材料抛光液、基于氧化铈磨料的抛光液以及用于先进封装的硅通孔（TSV）抛 光液等，在化学机械抛光液领域能够为客户提供一站式的服务。

构建关键原材料纳米磨料能力，提升原材料自给能力和利润率。在抛光液当中，核心原材 料纳米磨料和配方是公司的核心技术。研磨粒子是 CMP 抛光液上游的关键原材料，研磨粒 子长期被海外龙头企业日产化学、阿克苏诺贝尔等垄断，公司参股公司山东安特纳米材料 有限公司开发的多款硅溶胶已在公司多款抛光液产品中通过内部测试，部分已完成客户验 证，实现销售。公司通过自研自建的方式持续加强了氧化铈颗粒的制备的自主可控能力， 自产氧化硅磨料在公司产品中的测试论证进展顺利，多款产品已通过客户端的验证，已经 开始量产供应，将随着客户的进程逐步上量、实现销售。