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半导体射频电源行业专题报告：刻蚀+CVD设备的核心，国产化替代拐点已至.pdf

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• 2023/12/19
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• 浙商证券

半导体射频电源行业专题报告：刻蚀+CVD设备的核心，国产化替代拐点已至。射频电源：半导体工艺控制的核心，应用于CVD薄膜沉积、刻蚀等核心环节。1)什么是射频电源？用来产生射频电功率的电源。核心作用—通过产生高频电磁场，将在低压或常压下的气体进行电离、形成等离子体。从而在腔体内部实现不同的工艺需求。2)下游应用在哪？半导体薄膜沉积、刻蚀、离子注入、清洗等前道工艺机台的关键零部件之一，与工艺直接相关。射频电源的应用直接关系到腔体中的等离子体浓度、均匀度和稳定度，影响到终端晶圆刻蚀、成膜的质量。3)为什么值得关注？此前受制于下游对半导体核心零部件替换意愿弱、且对性价比不敏感等因素，国产替...