2022年半导体设备行业龙头企业核心竞争力分析 盛美上海半导体清洗设备受市场认可

1、清洗设备的技术难度增加，盛美上海差异化技术路线受市场认可

盛美上海主营半导体清洗设备、半导体电镀设备和先进封装湿法设备。半 导体清洗设备是公司的核心产品，2018-2020 年期间占公司主营业务收入 的比例分别为 93%/84%/84%。公司生产的清洗设备包括单片清洗设备、 单片槽式组合清洗设备、单片背面清洗设备、前道洗刷设备以及全自动槽 式清洗设备五种。其清洗设备已获得海力士、长江存储、中芯国际等知名 客户重复订单。

随着线宽微缩，清洗步骤数量快速增长，市场空间逐年扩大。2020 年全球 半导体设备市场规模近 712 亿美元，其中晶圆处理设备占比约为 80%，清 洗设备约占晶圆处理设备的 5%，清洗设备市场规模在 30 亿美元左右。在 芯片制造的数百道工序中，光刻、刻蚀、沉积等重复性工序后均设臵了清 洗工序，清洗步骤数量约占所有芯片制造工序步骤的 30%以上，是所有芯 片制造工艺步骤中占比最大的工序，而且随着技术节点的继续进步，清洗 工序的数量和重要性将继续随之提升，在实现相同芯片制造产能的情况下， 对清洗设备的需求量也将相应增加。在 80-60nm 制程中，清洗工艺大约 100 多个步骤，而到了 20-5nm 等先进制程，清洗工艺上升到 200 多个步 骤以上。

图：随着线宽微缩，清洗步骤数量快速增长

盛美开发差异化技术，研发出 SAPS、TEBO 等清洗技术，成功解决兆声 波清洗不均匀和易损伤两大难题。盛美从客户在制程工艺中遇到的实际问 题出发，研发出 SAPS、TEBO 等清洗技术。相比传统的兆声波清洗方法， 盛美首创的 SAPS 技术将兆声波能量发生器和晶圆之间的间隙做周期性变 化，达到了对晶圆表面兆声波能量分布的精确控制，有效解决了兆声波能 量在晶圆表面分布不均匀的难题。同时 TEBO 清洗技术使得兆声波清洗产 生的气泡不会爆炸，实现了硅片均匀和无损的兆声波清洗重要突破。在清 洗设备领域，公司最新的半关键设备、旗舰产品 SAPS、TEBO 和 Tahoe 能够覆盖 80%以上的清洗设备市场。

持续高研发投入引领清洗设备技术进步。2019-2021H1 年期间，公司产品 前期研发及后期持续改进的投入较大，研发费用逐年增加。公司研发支出 分别为 0.99/1.41/1.15 亿元，分别占营业收入的比例为 13%/14%/18%， 且公司研发支出全部进行费用化处理。同行业公司中微公司、北方华创均 将其研发投入的近半数进行了资本化处理，公司的利润较为扎实。

2、盛美上海国内渗透率逐步提升，深度受益国产化

根据中国国际招标网，统计了具有公开招中标信息的国内代表性的存储和 逻辑产线长江存储、华力微电子、华虹无锡项目的 12 英寸清洗设备中标 情况：2020 年清洗设备中日本迪恩士市占率为 45%，公司占比大幅增长 至 31%，东京电子、拉姆研究分别占比 10%和 7%。公司市占率在 2018- 2020 年依次是 16%、20%、31%，呈现逐年上升趋势。过去 5 年长江存 储的清洗设备共招标 164 台，其中公司占 21%，低于日本迪恩士的 35%。 （以上均为销量占比，我们预计销售额占比较次更低）

3、以清洗设备为基础向电镀、先进封装设备等方向拓展，打开营收空间

产品拓展方面，判断公司电镀/先进封装设备/立式炉管设备对应全球市场空 间分别为 5/18-23/17-20 亿美元。随着公司新产品客户验证的推进以及公 司内部产品研发的推动，公司营收空间有望随之打开。

图：以清洗设备为基础向电镀、立式炉管设备等方向拓展

（本文仅供参考，不代表我们的任何投资建议。如需使用相关信息，请参阅报告原文。）