光刻胶专题报告：以史为鉴，看半导体材料皇冠上的明珠.pdf
- 上传者：潘*
- 时间：2020/05/18
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化学放大光刻胶:来自化学家的魔法1980s光刻技术发展到深紫外光刻时,光源强度严重制约了光刻机的晶圆处理效率。为解决这一问题,IBM的化学工程师开发了划时代的化学放大光刻胶。然而IBM突破KrF光刻胶时半导体工业尚未发展到需使用KrF光刻的时代,KrF胶成了"早产儿”,直至1995-1997年半导体工艺进展至025um节点时KrF胶才迎来了高速增长时代ArF光刻胶雏形也源自IBM,但最终也由日本厂商发扬光大。
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