光刻胶行业简析：构建自主可控基石，国产替代加速放量.pdf
- 上传者：D***
- 时间：2024/10/15
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光刻胶行业简析：构建自主可控基石，国产替代加速放量。在半导体制造的生态系统中，光刻机和光刻胶是两个关键 的环节，它们共同决定了芯片制造的精度和效率。光刻机 和光刻胶的竞争将不仅仅是技术层面的较量，还将涉及供 应链的安全和自主可控能力。
根据Gartner的预测，全球光刻胶市场未来几年将保持强 劲增长，预计到2028年，市场规模将达到75亿美元，年 复合增长率（CAGR）约为8.7%。
虽然当前高端光刻机仍依赖于进口，但国产光刻胶的市场 占有率正逐步提升，国内企业正在逐步打破国外技术垄 断。
国内半导体产业的高速扩张需求，为国产光刻胶创造了更 多的市场机会。而在另一方面，国际贸易环境的不确定性， 也促使国内企业加速自主研发，减少对外部市场的依赖。
目前，国产光刻胶已经在i 线产品上占据主导，在KrF光 刻胶上占据相当份额，并已实现 ArF光刻胶产品的突破。 国内市场光刻胶国产化率尚在20-25%之间，未来增长空间 明显。
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