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阿斯麦研究报告：算力造铲人，先进制程时代开启新一轮增长。中高端光刻机的垄断制造商，AI时代算力的“造铲人”。下游资本开支强度提升+制 程迭代需求，助推ASML开启新一轮成长周期。

核心信息与逻辑：（1）行业层面：AI驱动行业复苏，下游晶圆代工 厂、存储原厂纷纷提高CAPEX以扩产；先进制程持续推进，台积 电2nm、英特尔14A等先进节点对光刻要求较高。下游资本开支强 度提升+制程迭代需求，助推ASML开启新一轮成长周期。（2）公 司层面：凭借供应链管理能力、客户共同研发，在高端光刻机领域 （EUV、ArFi）近乎垄断，竞争优势稳固。先进制程与成熟制程需 求双扩张，逻辑芯片、存储芯片双轮驱动，业绩确定性强。

超预期：（1）市场认为摩尔定律可能放缓或终结，光刻机厂商价值 不再。我们认为光刻机技术沿着瑞利公式不断迭代，摩尔定律将进 一步延续，光刻机需求将伴随摩尔定律延续而延续。ASML作为推 动摩尔定律的支柱力量，将在技术迭代进程中进一步巩固领先地位。 （2）市场认为High-NA EUV光刻机因成本极高，导致客户接受度 低。我们认为High-NA EUV具备良率高、生产周转快、总拥有成本 较低等优势，依然具备导入价值。台积电在技术切换节点上一贯稳 健，其保守态度不能否认High-NA EUV本身的价值。（3）市场担忧 ASML业绩受美国政府对中国大陆的出口管制政策、中国国产替代 加速等因素影响。我们认为9月最新政策对ASML业绩直接影响有 限，当前ASML股价已充分反应政策风险，无需过度悲观。国产替 代虽有进展，但在先进程度、量产能力等方面与ASML有较大差距。

催化剂：（1）台积电2nm试产顺利，于2025年量产，三大存储原 厂积极扩产HBM，提振设备需求。（2）已发货的High-NA EUV将 陆续确认收入，当前在手订单充足，保障FY2025业绩。