芯源微研究报告:国内涂胶显影设备龙头,布局化学清洗和先进封装.pdf

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  • 时间:2024/06/28
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芯源微研究报告:国内涂胶显影设备龙头,布局化学清洗和先进封装。涂胶显影设备是光刻工序关键设备,是唯一与光刻机联机作业的核心工艺设备, 行业进入门槛高,目前国产化率依然较低,该市场长期被日本厂商垄断,本土 厂商芯源微实现突破。芯源微作为国内唯一可以提供量产型前道涂胶显影机的设 备商,2018 年推出首台前道 Track,经过多年发展,积累了工艺达标、光刻机 联机作业、稳定运行的宝贵经验,完成了与数十台光刻机的成功联机量产。公司 产品型号覆盖度不断提升,offline、I-line、KrF 节点产品已实现量产,ArF 浸没 式机台正加速推进产业化,公司二季度新签订单情况良好,随着客户认可度的提 升,公司市场份额有望实现不断增长。

我们测算 2023 年中国大陆前道涂胶显影设备市场规模为 10.15 亿美元,预计 2025 年增长到 13.17 亿美元。目前前道涂胶显影设备主要被日本东京电子所垄 断,在全球市占率高达 90%,涂胶显影设备国产替代迫切。公司作为国内唯一 可以提供量产型前道涂胶显影机的设备商,相关产品成功打破国外厂商垄断,前 道涂胶显影设备已完成在晶圆加工环节 28nm 及以上工艺节点全覆盖,28nm 以 下工艺技术正在验证中,有望充分受益涂胶显影设备国产替代趋势。

积极布局化学清洗、临时键合及解键合等领域,打开成长空间。公司目前已经 成为国内前道物理清洗设备龙头,化学清洗机已于 2023 年第四季度获得国内知 名客户验证性订单,未来有望逐步放量。键合设备方面,目前芯源微可应用于 Chiplet 等领域的新产品临时键合机、解键合机也实现国内多家客户订单导入, 进一步打开先进封装市场增长空间。

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