瑞红苏州研究报告：多年深耕光刻胶领域，助力光刻胶国产化重要力量.pdf

瑞红苏州研究报告：多年深耕光刻胶领域，助力光刻胶国产化重要力量。多年深耕光刻胶领域，光刻胶国产化的重要力量 。瑞红苏州是一家专注于光刻胶及其配套试剂研发、生产及销售等业务的高新技术 企业，产品主要包括半导体光刻胶、显示面板光刻胶等，其中半导体光刻胶包括 紫外宽谱光刻胶、g 线光刻胶、i 线光刻胶、KrF 光刻胶等，显示面板光刻胶包 括触摸屏光刻胶、TFT-LCD 光刻胶等。2023 年实现营收 2.46 亿元（+9.1%），归 母净利润 2639.58 万元（-22.91%）。

芯片制程提升+中国晶圆产能扩张+光刻胶国产化加速，带动光刻胶需求增长。全球半导体制程向着更先进、更精细化方向发展，驱动半导体制造对光刻胶需求 增长。其中 KrF 光刻胶随着 3D NAND 堆叠层数迅速增加，对光刻胶的使用量也 将大幅提升；ArF 光刻胶主要用于先进制程的多重光刻工艺，其用量也随着市场 对先进工艺产品的需求不断增长；先进制程 EUV 光刻道次的增加，推动其使用 量将大幅增加。同时，根据全球半导体观察数据，截至 2023 年 11 月，中国晶圆 厂已建成 44 座，预计至 2024 年底，将建立 32 座大型晶圆厂，且全部锁定成熟 制程。根据 SEMI 数据，预计 2023 年中国预计将占据 200 mm 晶圆厂产能的 22%， 2023-2026 年将以 22%的增长率位居第二；预计 2024-2026 年中国大陆半导体光 刻胶总体需求量增速将快速复苏，达到 12.04%、11.50%和 7.71%。此外，我国 光刻胶行业发展起步较晚，生产能力主要集中在 PCB 光刻胶等中低端产品，高 端半导体光刻胶被美日企业垄断，随着国内半导体光刻胶树脂原材料技术壁垒实 现突破，国产光刻胶进口替代有望加速。

光刻胶产品覆盖广+设备优势，定增加码光刻胶先进工艺。公司是目前我国唯一一家拥有全系列波长（436/365/248/193nm）光刻机研发平 台的光刻胶生产企业，具备多项自主研发的光刻胶生产核心技术，光刻胶实现了 较为全面的产品技术序列覆盖。目前紫外宽谱光刻胶、g/i 线光刻胶、TFT 光刻 胶等产品均已通过客户认证并量产多年；2022 年，KrF 高端光刻胶亦通过客户 认证并开始量产；2023 年对 ArF 高端光刻胶研发工作已启动。客户包括中芯国 际、合肥长鑫、华虹半导体、晶合集成等国内知名半导体企业。此外，公司拟向 中国石化集团资本定向发行股票不超过 1.01 股，预计募集资金总额不超过 8.5 亿元，募集资金用于先进制程工艺半导体光刻胶及配套材料业务拓展项目。