芯源微研究报告：涂胶显影设备龙头，新品持续迭代突破.pdf

上传者：风****
时间：2023/11/28
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芯源微研究报告：涂胶显影设备龙头，新品持续迭代突破。公司是国内领先的半导体湿法设备企业，并且涂胶显影设备在国内率先量产，打破了海外的长期垄断，未来有望深度受益国产晶圆厂扩产。

目前国内 TRACK 设备规模近 10 亿美元，长期被日企垄断

TRACK 设备是光刻工序核心设备之一，负责涂胶显影等工艺。根据 Gartner 数据测算，2020 年中国大陆半导体 TRACK 设备销售额为 7.1 亿美元，预计 2023-2024 年中国大陆半导体 TRACK 设备为 10.1 亿美元、11.6 亿美元。从供给端来看，全球和国内市场均被日本 TEL、DNS 垄断了大部分市场，国产厂商目前仅芯源微 TRACK 设备实现了量产，具有较大的替代空间。

TRACK 设备率先量产并取得重复订单

公司作为国内唯一可以提供量产型前道涂胶显影机的厂商，目前已完成在前道晶圆加工环节 28nm 及以上工艺节点的全覆盖，并持续向更高工艺等级迭代。此外，公司第三代浸没式高产能涂胶显影设备平台架构 FT300 （Ⅲ）发布后在客户端导入进展良好，同时未来可作为通用性架构全面向下兼容 ArF、KrF、I-line、offline 等工艺。订单方面，2022 年公司新签订单 22 亿元，其中包括 TRACK 设备的重复订单，这预示公司打破了海外厂商垄断的格局，未来有望受益国产晶圆厂的持续扩产。