国林科技研究报告：国产臭氧发生器领先者，半导体装备开创新纪元.pdf
- 上传者：小**
- 时间：2023/10/20
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国林科技研究报告：国产臭氧发生器领先者，半导体装备开创新纪元。国内臭氧发生器龙头公司，助力半导体产业链国产化。 臭氧发生器在半导体领域有两大应用，其中臭氧水发生装置主要用于半导体前道工艺环节的湿法清洗，臭氧 气体发生装置可用于CVD和ALD等薄膜沉积环节及部分干法清洗环节。当前我国半导体臭氧设备市场主要被美国 MKS等外企垄断，由于半导体产业转移及产业安全等要求，未来高端设备不论是整机自研、零部件配套等领域 实现国产自主可控乃是大势所趋。 公司已实现半导体臭氧设备核心技术突破，生产的臭氧水机产生的臭氧水浓度可达80-150PPm，臭氧气体发 生器产生的臭氧气体浓度可达200-300mg/L，均已取得相关专利，产品性能可对标海外龙头。目前产品正在客 户端验证，验证结束后可立即投产量产，将有望加速半导体产业链的国产替代。
高品质乙醛酸供需矛盾突出，公司臭氧制酸生产工艺成熟，具备量产条件。 目前国内高品质乙醛酸产品基本依赖进口，国林科技专有乙醛酸制备方法“臭氧氧化顺酐法”，产品品质高、 可产生副产品甲酸钾且转化效率基本达到100%。
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