拓荆科技（688072）研究报告：国产薄膜沉积设备破局者，上市开启新征程.pdf

上传者：王**
时间：2022/06/29
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拓荆科技（688072）研究报告：国产薄膜沉积设备破局者，上市开启新征程。国内薄膜沉积设备龙头，布局三大产品系列。公司立足薄膜设备积极布局多元化产品系列，产品包括 PECVD、ALD 和 SACVD 设备，产品型号接近 10 余款，下游客户覆盖中芯国际、华虹集团、长江存储等国内一线逻辑、存储及功率等晶圆厂商。公司 2021 年营收同比增长 73.99%至 7.58 亿元，2017-2021 营收年均复合增速达 44.3%。

PECVD 设备：公司核心产品，产业化持续推进。公司深耕薄膜设备近十余年，拥有 6 个型号产品，覆盖 16 种不同工艺，产品广泛应用于逻辑、DRAM、3D NAND 及先进封装领域，设备本土主要产线覆盖率超 15%，公司持续扩大产品应用领域，产品市占率持续提升。

SACVD 设备：产业化应用和国产替代先锋。公司系国内外 SACVD 设备稀缺标的，产品性能对标国际一线大厂应用材料，已覆盖长江存储、华虹集团以及上海积塔等客户，主要产线设备覆盖率合计达 25%，随着公司积极开拓国内外市场，后续将打开成长空间。

ALD 设备：市场规模持续增长，有望成为新增长亮点。受益于先进制程持续推进，市场对 ALD 设备需求加速增长。据 Gartner 预计，未来 ALD 年复合增速将达 14.7%，2025 年市场规模将达 32 亿美元，高价值新品布局及放量有望成为后续一大亮点。