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拓荆科技（688072）研究报告：国产薄膜沉积设备龙头，广阔空间加速成长。国内唯一 PECVD、SACVD 产业化供应商，打破外资垄断。拓荆科技成立于 2010 年， 十余年来专注于半导体薄膜沉积设备，承担多项国家科技重大专项，是国内唯一一 家产业化应用 PECVD 和 SACVD 设备的供应商，主要产品包含 PECVD 设备、ALD 设备 及 SACVD 设备三个系列，产品已适配国内最先进的 28/14nm 逻辑芯片、19/17nm DRAM 芯片及 64/128 层 3D NAND FLASH 晶圆制造产线，并应用于中芯国际、华虹集团、长 江存储、长鑫存储、厦门联芯、燕东微电子等国内主流晶圆厂，累计发货超 150 台， 打破外资厂商在国内的垄断局面。

营收连续高增，盈利能力快速提升。受益于国内半导体设备需求快速增长，公司持 续研发投入进行产品迭代，提升竞争力，公司营收自 2018 年 0.71 亿元增长至 2021 年 7.6 亿元，归母净利润由 2018 年的-1.0 亿元，到 2021 年扭亏为盈 6848.7 万元。 此外随着规模化逐步体现、工艺技术提升、先进工艺机台推出，公司毛利率快速提 升，由 2018 的 31.67%提升至 2021 年 44.0%，2022Q1 进一步提升至 47.4%。

2020 年全球薄膜设备市场达到 138 亿美元，占 IC 制造设备 21%；其中主要是 CVD 和 PVD，合计占 IC 制造设备 18%。CVD 市场规模达到 89 亿美元，主流是 设备包括 PECVD、Tube CVD、LPCVD 和 ALD 等。整个薄膜市场市占率最高的是 AMAT。 高端领域如 ALD 受 ASM、TEL 和 Lam 等海外龙头主导。根据 Gartner，全球 CVD 市 场前五大供应商包括 AMAT（28%）、Lam Research（25%）、TEL（17%）、Kokusai （原日立高新，8%）、ASM（11%）。

国内薄膜厂商加速导入，国产化率仍有较大提升空间。根据招标网数据统计，长江 存储在 2019~2020 年采购薄膜类设备约每年 200 多台（主要是 CVD 和 PVD），主要 类别以 CVD 为主，其中原子层沉积 70~80 台。从国产替代率而言，溅镀（PVD 类） 北方华创供应数量比重较高，合计达到将近 20%；CVD 类国产替代率较低，主要国 产供应商拓荆科技供应占比约 2~3%。北方华创、拓荆科技在华虹无锡、华力集成 项目合计国产化率约 10~15%。